447nm 671nm 1342nm激光器簡介

?                      1342 nm（基頻光）——半導(dǎo)體硅材料專用波長

1342 nm 是 Nd:YAG 晶體的特征發(fā)射譜線，屬于近紅外波段。硅（Si）在 1342 nm 處的吸收系數(shù)顯著高于 1064 nm，熱效應(yīng)分布更均勻、更易控制，特別適用于硅材料內(nèi)部改性與深層微加工，如硅晶圓隱形劃片、集成電路電阻微調(diào)、半導(dǎo)體晶圓精密加工等，可實(shí)現(xiàn)無裂紋、低損傷、無碎屑的高質(zhì)量加工。1342 nm 被譽(yù)為硅材料精密加工的“黃金波長"，相比 1064 nm 具有更高的工藝穩(wěn)定性與加工潔凈度，是半導(dǎo)體后道工藝的理想光源。

?                      671 nm（1342 nm 二倍頻）

671 nm 為 1342 nm 基頻光經(jīng)非線性光學(xué)倍頻產(chǎn)生的紅光輸出，該波長對平板顯示產(chǎn)業(yè)廣泛使用的光刻膠、有機(jī)功能薄膜、ITO 透明導(dǎo)電膜等材料具有匹配度優(yōu)異的吸收特性，聚焦精度高、熱影響區(qū)小，廣泛應(yīng)用于 LCD/OLED/MicroLED 面板像素修補(bǔ)、TFT 電路修復(fù)、微小缺陷修正與精密打標(biāo)等場景。671 nm 是顯示面板修復(fù)領(lǐng)域通用型標(biāo)準(zhǔn)紅光波長，具備修復(fù)精度高、基板損傷低、良率優(yōu)等核心優(yōu)勢。

?                      447 nm（1342 nm 三倍頻）

447 nm 為 1342 nm 基頻光經(jīng)三倍頻技術(shù)獲得的藍(lán)光輸出，是 Nd:YAG 體系ji具特色的短波長光源。447 nm 光子能量高，對有機(jī)材料、光刻膠、聚合物薄膜等吸收效率ji高，可實(shí)現(xiàn)冷加工效應(yīng)，加工過程無碳化、無發(fā)黃、無熱擴(kuò)散，特別適用于顯示面板微小缺陷修補(bǔ)、像素精準(zhǔn)修復(fù)、功能性薄膜高精度去除等工藝。447 nm 是顯示微加工領(lǐng)域最高精度級冷加工波長，相比綠光與紅光，加工邊緣更潔凈、分辨率更高、器件良率更優(yōu)。

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